2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[17p-F214-1~14] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2018年3月17日(土) 13:45 〜 17:30 F214 (61-214)

喜多 隆(神戸大)、若原 昭浩(豊橋技科⼤)

14:00 〜 14:15

[17p-F214-2] Se 処理されたGaAs(111)B 表面の構造安定性

〇(M1)後藤 俊治1、大竹 晃浩2、赤石 暁1、中村 淳1 (1.電通大院情報理工、2.物材機構)

キーワード:表面再構成、III-V族化合物半導体、第一原理計算

GaAs表面のSeによる不動態化は古くから議論されてきた。最近、Se処理されたGaAs(111)B 表面の新たな構造(As/Se 終端)モデルが提案された。本研究では、このモデルの構造安定性について、第一原理計算を用いて生成エネルギーの観点から議論する。表面の状態相図から、提案されているAs/Se終端表面は安定構造であることがわかった。一方,エレクトロンカウンティング則を満たさないSeによる完全終端表面も安定構造として存在し得ることがわかった。