2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

3 光・フォトニクス » 3.13 半導体光デバイス

[17p-P3-1~22] 3.13 半導体光デバイス

2018年3月17日(土) 13:30 〜 15:30 P3 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[17p-P3-18] 直接貼付InP/Si基板上GaInAsP/GaInAsP SCH-MQW レーザ構造の検討

杉山 滉一1、鎌田 直樹1、大貫 雄也1、韓 旭1、内田 和希1、Periyanayagam Gandhi Kallarasan1、相川 政輝1、早坂 夏樹1、下村 和彦1 (1.上智大理工)

キーワード:レーザ、InP/Si、直接貼付

光配線は,電気配線を光配線に置き換えることで,LSIの消費電力や高速大容量通信などの問題を克服する技術です.我々はシリコン基板上への光デバイスの集積方法として,薄膜InP層とSi基板を直接接合して作製したInP / Si基板上に結晶成長する方法を提案している.この方法を用いて,InP / Si基板上にボイドのない2インチInP / Si基板,1.2μm波長の半導体レーザを得た[1,2].本研究では,InP / Si基板上にSCH-MQW構造レーザを実現した.