[17p-P7-1~21] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[17p-P7-10] 積層メタル技術を用いたMEMS慣性センサの封止環境における温度依存性

〇小西 敏文^1,2、山根 大輔²、佐布 晃昭¹、陳 君怡²、Chang Tso-Fu Mark²、伊藤 浩之²、道正 志郎²、石原 昇²、曽根 正人²、町田 克之²、益 一哉²、飯田 慎一¹ (1.NTT-AT、2.東工大)

キーワード：MEMS慣性センサ、温度依存性、封止環境

我々は、積層メタル技術を用いた小型かつ低ノイズな静電容量型MEMS慣性センサの研究開発を行っている。本センサを人体動作検出等に用いる場合、デバイスの挙動と封止環境の関係を調査する必要がある。本研究では、試作したセンサの封止環境における温度依存性[2]について検討を行ったので報告する。