[18p-A404-1~12] 高強度レーザーによる物質変換～材料プロセッシングの展開

[18p-A404-4] 高強度パルスEUV光による材料プロセシングに向けたレーザー駆動光源のデブリ抑制法開発

〇(PC)田中 のぞみ¹、和田 直¹、景山 恭行²、西村 博明¹ (1.阪大レーザー研、2.（株）豊田中央研究所)

キーワード：極端紫外光、材料プロセシング、デブリ抑制

極端紫外(EUV)光と材料相互作用の特徴を利用し、難加工材料プロセシングへの応用を目指した基礎研究を行っている。レーザー駆動EUV光源は装置へのアクセスの容易さ、高EUV光変換効率や高強度光といった産業にとって有利な特徴を持つが、試料上へのデブリ堆積の抑制が課題である。本研究では粒子軌道とEUV光路の差異を利用したデブリ抑制システムを構築し、実験及び計算によるデブリ抑制能力の評価を行った。