2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[18p-F206-1~15] 6.2 カーボン系薄膜

2018年3月18日(日) 13:45 〜 18:00 F206 (61-206)

吉武 剛(九大)、梅沢 仁(産総研)

15:45 〜 16:00

[18p-F206-8] 高出力化に向けたALD-Al2O3 2DHG ダイヤモンドMOSFETの高電圧動作における高周波特性評価

〇(B)今西 祥一朗1、大井 信敬1、工藤 拓也1、大久保 智1、堀川 清貴1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.早大材研)

キーワード:ダイヤモンド、高周波、FET

ダイヤモンドは高周波・高出力デバイスとして期待されている。2次元正孔ガス(2DHG)を利用したダイヤモンドFETの高周波動作時の出力特性において、GaAs FETやLDMOSを超える出力密度の報告がなされているが、動作電圧20V程度であるため、動作電圧の向上により、更なる高出力化が期待できる。本研究では、高出力化に向け、優れた絶縁破壊電圧を有するALD-Al2O3 2DHGダイヤモンドMOSFETの高周波特性を高電圧動作(VDS = -100 V)にてダイヤモンドでは初めて評価した。