2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[18p-G203-1~18] 13.5 デバイス/集積化技術

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:00 G203 (63-203)

齋藤 真澄(東芝)、宮地 幸祐(信州大)

14:15 〜 14:30

[18p-G203-5] 強誘電体型ヒステリシスを有するLa2O3/Si MOSFETの電気特性

遠藤 清1、加藤 公彦1、竹中 充1、高木 信一1 (1.東大院工)

キーワード:半導体

我々は、ALD La2O3/InGaAs MOS構造が強誘電体型(反時計回り)のヒステリシスを示し、La2O3/InGaAs MOSFETでは、低温で従来のMOSFETの限界値より小さなS.S.が得られることを報告した 。しかしながらこのヒステリシスの起源として、強誘電性に加えイオンドリフトの影響の可能性もある。そこで本研究では、電気特性が比較的理解しやすいLa2O3/Si MOS構造およびMOSFETを作製し、そのC-V特性やId-Vg特性などを、異なる温度で評価することにより、ヒステリシスの起源および動作原理の解明を試みた。