16:00 〜 18:00
[18p-P14-7] 薄層化したAl/Ti膜を用いたp型4H-SiCオーミックコンタクトの形成
キーワード:炭化ケイ素、オーミック、p型
p型4H-SiCへのオーミックコンタクトとしてTiAl電極が報告されているが、高温熱処理時にAlが揮発し、表面が荒れる問題があった。今回、薄層化したTiAl電極形成条件を検討し、コンタクト抵抗率と表面モフォロジーの両立化を図った。
一般セッション(ポスター講演)
15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)
2018年3月18日(日) 16:00 〜 18:00 P14 (ベルサール高田馬場)
16:00 〜 18:00
キーワード:炭化ケイ素、オーミック、p型