The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

[19a-C101-1~10] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

Mon. Mar 19, 2018 9:15 AM - 11:45 AM C101 (52-101)

Kuniyuki Kakushima(Titech)

9:45 AM - 10:00 AM

[19a-C101-3] Fabrication of Plasmonic Color Filter using an Elastomer Nanosheet

hayato kumagai1, isao takahashi2, shinji takeoka2,3, kazuaki sawada1, toshinori fujie2,3, kazuhiro takahashi1,3 (1.Toyohashi Univ., 2.Waseda Univ., 3.JST PRESTO)

Keywords:elastomer, surface-plasmon, color filter

プラズモニックカラーフィルタとは表面プラズモンを利用した回折格子であり、格子周期に依存した波長選択性が得られる。本研究は、38%の弾性変形領域を有するポリスチレン‐ポリブタジエン‐ポリスチレンを用いて、膜厚数百nmの自立プラズモニックカラーフィルタを製作した。微細格子は集束イオンビームで形成した。光学測定では、表面プラズモン共鳴の理論値に一致した透過/反射ピークと色が得られた。