[19p-C204-1~17] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[19p-C204-16] パルスプラズマによるエッチングレート分布の制御性向上

〇薬師寺 守¹、桑原 謙一¹、森本 未知数¹ (1.日立ハイテクノロジーズ)

キーワード：パルス　プラズマ　エッチング　レート　分布　制御