2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20a-C101-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月20日(火) 09:15 〜 12:15 C101 (52-101)

曽根 正人(東工大)

09:15 〜 09:30

[20a-C101-1] [講演奨励賞受賞記念講演] 無電解めっき法で作製した微細配線の電気特性

日恵野 敦1、中西 務1、田中 裕介1 (1.東芝メモリ)

キーワード:無電解めっき法、微細配線、比抵抗