The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

[20a-C101-1~11] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

Tue. Mar 20, 2018 9:15 AM - 12:15 PM C101 (52-101)

Masato Sone(Titech)

11:45 AM - 12:00 PM

[20a-C101-10] Fabrication of pH-ISFETs with SiO2 Sensing Layer by Using Minimal Fab

Tomoaki Kageyama1,3, Kazuhiro Koga2, Sommawan Khumpuang3,2, Shiro Hara3,2, Sang-Seok Lee1 (1.Tottori Univ., 2.MINIMAL, 3.AIST)

Keywords:ISFET, pH sensor, Minimalfab

イオン感応型電界効果トランジスタ(ISFET)はCMOSプロセスとの親和性の高さから,CMOS混載IoTセンサとして重要である.IoTセンサ市場は個別用途向け,所謂ロングテールの占める割合が大きい.この研究開発と生産には,個別生産向けのミニマルファブが適している.我々は,実用化されたミニマルファブ装置群を用いてpH-ISFETを作製し,評価した.