2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20a-C101-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月20日(火) 09:15 〜 12:15 C101 (52-101)

曽根 正人(東工大)

11:45 〜 12:00

[20a-C101-10] ミニマルファブを用いたSiO2イオン感応膜pH-ISFETの作製

影山 智明1,3、古賀 和博2、クンプアン ソマワン3,2、原 史朗3,2、李 相錫1 (1.鳥取大、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)

キーワード:ISFET、pHセンサ、ミニマルファブ

イオン感応型電界効果トランジスタ(ISFET)はCMOSプロセスとの親和性の高さから,CMOS混載IoTセンサとして重要である.IoTセンサ市場は個別用途向け,所謂ロングテールの占める割合が大きい.この研究開発と生産には,個別生産向けのミニマルファブが適している.我々は,実用化されたミニマルファブ装置群を用いてpH-ISFETを作製し,評価した.