2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20a-C101-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月20日(火) 09:15 〜 12:15 C101 (52-101)

曽根 正人(東工大)

09:30 〜 09:45

[20a-C101-2] 電界誘起気泡とプラズマを用いたメタライゼーション法の創生

市川 啓太1、福山 雄大2、前田 真吾1、山西 陽子2 (1.芝浦工大、2.九大工)

キーワード:マイクロバブル、プラズマ、メタライゼーション

本研究では,プラズマの金属イオンに対する還元性とマイクロバブルのキャビテーションにおけるジェット水流の穿孔力に着目し,電界誘起気泡とプラズマを用いたメタライゼーション法の確立を行う.本手法では対象の導電性の有無に影響されず,表面処理を行うことなく局所的なメタライゼーションを行うことが可能である.