The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[20a-C102-1~12] 6.3 Oxide electronics

Tue. Mar 20, 2018 9:00 AM - 12:15 PM C102 (52-102)

Akira Chikamatsu(Univ. of Tokyo)

9:30 AM - 9:45 AM

[20a-C102-3] Silicon waveguide optical switch with metal–insulator transition of VO2

Keisuke Shibuya1, Yuki Atsumi1, Tomoya Yoshida1, Yoichi Sakakibara1, Masahiko Mori1, Akihito Sawa1 (1.AIST)

Keywords:vanadium dioxide, metal-insulator transition, optical switch

VO2は室温以上(約67 °C)で金属-絶縁体転移を示す物質である。転移温度近傍において赤外領域の光学定数が劇的に変化することから、光学デバイスへの応用が期待されている。しかしながら、VO2の消衰係数は比較的大きいために、VO2を光伝搬層として使用した場合には伝搬損失が大きくなるという課題がある。そこで本研究では、VO2をシリコン導波路のクラッドとして使用することにより、上述の課題解決した光学デバイスの作製を試みた。