[20a-C204-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[20a-C204-6] 準大気圧プラズマによる高濃度CF₄ガスを用いたフルオロカーボン膜の高速合成と特性評価

〇田中 智之¹、木倉 丈¹、竹本 啓輝¹、垣内 弘章¹、安武 潔¹、大参 宏昌¹ (1.阪大院工)

キーワード：プラズマCVD、フルオロカーボン膜