[20p-B401-1~12] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[20p-B401-6] Comparison of organic/inorganic hybridization of UV-cured resin films between exposure methods of an inorganic precursor

〇Takuya Uehara¹, Yuki Ozaki¹, Nobuya Hiroshiba¹, Takahiro Nakamura¹, Masaru Nakagawa¹ (1.IMRAM, Tohoku Univ.)

Keywords:sequential infiltration synthesis, sequential vapor infiltration, reactive ion etching

光ナノインプリントリソグラフィにより成形した光硬化有機物のパターンに逐次浸透合成(SIS)または逐次気相浸透(SVI)を施すことで、均一に有機－無機ハイブリッド化し、エッチング耐性を向上させたレジストマスクが作製できるのではないかと着想した。SISとSVIを施した光硬化樹脂薄膜の酸素反応性イオンエッチングによる膜厚の減少挙動の違いを調べ、無機前駆体trimethylaluminumの光硬化樹脂薄膜への浸透挙動の違いを考察した。