2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20p-B401-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年3月20日(火) 13:00 〜 16:15 B401 (53-401)

山口 徹(NTT)、谷口 淳(東理大)

14:15 〜 14:30

[20p-B401-6] 反応性無機前駆体の曝露方法の違いによる光硬化樹脂薄膜の有機-無機ハイブリッド化の比較

上原 卓也1、尾﨑 優貴1、廣芝 伸哉1、中村 貴宏1、中川 勝1 (1.東北大多元研)

キーワード:逐次浸透合成法、逐次気相浸透法、反応性イオンエッチング

光ナノインプリントリソグラフィにより成形した光硬化有機物のパターンに逐次浸透合成(SIS)または逐次気相浸透(SVI)を施すことで、均一に有機-無機ハイブリッド化し、エッチング耐性を向上させたレジストマスクが作製できるのではないかと着想した。SISとSVIを施した光硬化樹脂薄膜の酸素反応性イオンエッチングによる膜厚の減少挙動の違いを調べ、無機前駆体trimethylaluminumの光硬化樹脂薄膜への浸透挙動の違いを考察した。