09:30 〜 09:45 △ [20a-C309-3] 対向ターゲット式スパッタリング法によるHf0.5Zr0.5O2薄膜の作製 〇(M2)河本 泰輝1、大田 宗司1、広藤 裕一1、小池 一歩1、矢野 満明1、門倉 貞夫2、中光 豊3 (1.大阪工大ナノ材研、2.FTSコーポレーション、3.ULVAC)