14:30 〜 14:45 [20p-E313-6] モンテカルロ直接法を用いた希薄流体シミュレーションによる半導体製造プロセス向け真空計内部の解析とその構造最適化 〇石原 卓也1、添田 将1、関根 正志1、新村 悠祐1 (1.アズビル株式会社)