CheolMin Lim

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発表者・著者、共著者

2019年9月18日(水) 13:15 〜 17:00 B11 (B11)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.5 デバイス／配線／集積化技術

[18p-B11-1~14] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

15:30 〜 15:45

▼ [18p-B11-9] Influence of hydrogen ion implantation dose on characteristics of Ge-on-insulator substrates fabricated by smart-cut technology

〇CheolMin Lim¹、Ziqiang Zhao¹、Kei Sumita¹、Kasidit Toprasertpong¹、Mitsuru Takenaka¹、Shinichi Takagi¹ (1.Univ. of Tokyo)