14:45 〜 15:00 [19p-B11-4] フッ硝酸を用いたSiエッチングにおけるソーマーク段差平坦化メカニズムの解明 〇深谷 天1、大井上 昂志1、齋藤 卓1、萩本 賢哉1、岩元 勇人1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ)