TsungEn Lee

→ Google ScholarでTsungEn Leeを検索

発表者・著者、共著者

2019年9月19日(木) 13:45 〜 17:45 E305 (E305)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[19p-E305-1~15] 13.3 絶縁膜技術

17:00 〜 17:15

▼ [19p-E305-13] Improvement of Si_0.78Ge_0.22 MOS interface properties by using TiN/Y₂O₃ gate stacks with TMA passivation

〇TsungEn Lee¹、Kasidit Toprasertpong¹、Mitsuru Takenaka¹、Shinichi Takagi¹ (1.The Univ. of Tokyo)