13:45 〜 14:00 [19p-E308-3] 金属原料を用いた二セレン化ハフニウム薄膜の作製 〇小澤 拓真1、阿部 優1、浦上 法之1,2、橋本 佳男1,2 (1.信州大工、2.先鋭材料研究所)