10:15 〜 10:30 [20a-B31-6] Ar+O2+H2スパッタ成膜によるIn–Ga–O薄膜の結晶性・電気特性制御 〇(M1C)神寳 健太1、是友 大地1、古田 守1、川嶋 絵美2、霍間 勇輝2 (1.高知工科大、2.出光興産)