穴田智史

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発表者・著者、共著者

2019年9月20日(金) 13:45 〜 17:45 E303 (E303)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[20p-E303-1~14] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

16:00 〜 16:15

△ [20p-E303-9] 位相シフト電子線ホログラフィーを用いた動作時p-n接合ダイオードの電位・電場・電荷密度その場計測

〇(P)穴田智史¹、山本和生¹、佐々木宏和²、柴田直哉^1,3、堀祐臣²、衣川耕平²、今村明博²、平山司¹ (1.JFCC、2.古河電工、3.東大)

2019年9月21日(土) 09:00 〜 11:45 B01 (オープンホール)

一般セッション(口頭講演)
| 合同セッションN「インフォマティクス応用」
| 23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

[21a-B01-1~10] 23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

11:00 〜 11:15

[21a-B01-8] スパースコーディングによる電子線ホログラムの雑音低減

〇(P)穴田智史¹、野村優貴^2,3、平山司¹、山本和生¹ (1.JFCC、2.パナソニック、3.名大)