一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2019年9月18日(水) 13:15 〜 17:30 N304 (N304)
吉川 洋史(埼玉大)、小幡 孝太郎(理研)、安國 良平(奈良先端大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇伊藤 佑介1、吉﨑 れいな1、宮本 直之1、柴田 章広2、長澤 郁夫2、長藤 圭介1、杉田 直彦1 (1.東大院工、2.AGC株式会社)
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13:30 〜 13:45
〇(PC)加藤 洋生1、宮本 良之1 (1.産総研CD-FMat)
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13:45 〜 14:00
〇高田 英行1、奈良崎 愛子1、吉富 大1、鳥塚 健二1、小林 洋平2 (1.産総研、2.東大物性研)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇奈良崎 愛子1、高田 英行1、吉富 大1、鳥塚 健二1、小林 洋平2 (1.産総研、2.東大物性研)
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14:15 〜 14:30
〇小幡 孝太郎1、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子)
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14:45 〜 15:00
〇(P)飯野 敬矩1,2、岡野 和宣1、S. W. Lee2、山川 健1、萩原 宏規1、Hong Zhen-Yi1、前野 貴則1、笠井 宥佑3、佐久間 臣耶3、早川 健3,4、新井 史人3、小関 泰之2、合田 圭介2,5,6、細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質、2.東大院、3.名大院工、4.中央大理工、5.JST、6.武漢大)
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15:00 〜 15:15
〇竹林 竜1、秋田 絵理1、岡野 和宣1、安國 良平1、細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質)
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15:15 〜 15:30
〇(M2)渕上 裕暉1、薮内 麻由1、宮本 美佑1、二村 大1、山口 誠2、岡田 達也1、富田 卓朗1 (1.徳島大理工、2.秋田大理工)
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15:30 〜 15:45
〇櫻井 治之1、小西 邦昭1、田丸 博晴1、湯本 潤司1、五神 真1 (1.東大理)
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15:45 〜 16:00
〇松本 和也1、小川 祐也1、甲藤 正人1、加来 昌典1 (1.宮崎大工)
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16:15 〜 16:30
〇佐藤 柾1、小澤 祐市1、佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
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16:30 〜 16:45
〇古川 雄規1,2、井上 峻介1,2、橋田 昌樹1,2、阪部 周二1,2 (1.京大化研、2.京大院理)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇池山 潤1、吳 奇勳1,2、杉山 輝樹2,3、中林 誠一郎1、吉川 洋史1 (1.埼大院理工、2.交通大応化、3.奈良先端大物質)
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17:00 〜 17:15
〇場本 圭一1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
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17:15 〜 17:30
〇(B)高橋 秀実1、池山 潤2、山地 真由2、小林 成貴2、丸山 美帆子3、中嶋 誠4、岡田 修司5、吉村 政志4、森 勇介3、中林 誠一郎2、吉川 洋史2 (1.埼大理化、2.埼大院理工、3.阪大院工、4.阪大レーザー研、5.山形大院有機)
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