一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2019年9月19日(木) 09:00 〜 11:45 N304 (N304)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇吉田 剛1、野尻 秀智2、大越 昌幸1 (1.防大電電、2.（株）レニアス)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇野尻 秀智1、大越 昌幸2 (1.レニアス、2.防衛大電気電子)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇横山 岬1、吉田 剛1、松木 伸行2、大越 昌幸1 (1.防衛大電気電子、2.神大工)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇大越 昌幸1、吉田 剛1 (1.防衛大電気電子)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇本間 健太郎1、福本 光利1、渡辺 歴1 (1.立命館大学理工)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇欠端 雅之1、屋代 英彦1、大矢根 綾子2、伊藤 敦夫3、鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光、2.産総研 ナノ材料、3.産総研 健康工学)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇吉川 秀亮1、宮川 鈴衣奈1、江龍 修1 (1.名工大院工)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇松浦 英徳1、宮川 鈴衣奈1、江龍 修1 (1.名工大院)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇高橋 孝1,2、谷 峻太郎1、黒田 隆之助2、小林 洋平1,2 (1.東大物性研、2.産総研オペランドOIL)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇福島 涼太1、上杉 祐貴1、齋藤 晃2、佐藤 俊一1 (1.東北大学多元研、2.名大未来研)
スケジュール
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