野尻秀智

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発表者・著者、共著者

2019年9月19日(木) 09:00 〜 11:45 N304 (N304)

一般セッション(口頭講演)
| 3 光・フォトニクス
| 3.7 レーザープロセシング

[19a-N304-1~10] 3.7 レーザープロセシング

09:15 〜 09:30

[19a-N304-2] F₂レーザーの光化学表面改質法により形成したポリカーボネート上シリコーン改質SiO₂膜の耐摩耗性および耐熱性向上

〇野尻秀智¹、大越昌幸² (1.レニアス、2.防衛大電気電子)