一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
2019年9月20日(金) 13:45 〜 18:00 C310 (C310)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇青島 楓汰1、川口 昂彦1、坂元 尚紀1、鈴木 久男1、脇谷 尚樹1 (1.静大院工)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇横山 竜1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工、2.元素戦略)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇堀松 芳樹1、生田 貴大1、土嶺 信男2、岩谷 幸作2、金子 智3、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇(D)股村 雄也1、池之上 卓己1、三宅 正男1、平藤 哲司1 (1.京大院エネ科)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇寺島 賢人1、下柳 勇次1、柏木 誠1、賈 軍軍2、中村 新一3、重里 有三1 (1.青学大理工、2.早大国際理工学Ｃ、3.青学大理工分析Ｃ)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇須賀 結奈1、柏木 誠1、賈 軍軍2、中村 新一3、重里 有三1 (1.青学大理工、2.早大国際理工学C、3.青学大理工分析C)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M1)林 遼一郎1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工、2.元素戦略)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(M1)水船 皓司1、丸山 伸伍1、永沼 博1、松本 祐司1 (1.東北大院工)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇小倉 航平1、柏木 誠1、賈 軍軍2、待永 広宣3、重里 有三1 (1.青学大理工、2.早大国際理工C、3.日東電工)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇濱野 剛志1、工藤 映太1、川村 みどり1、木場 隆之1、阿部 良夫1、金 敬鎬1、室谷 裕志2 (1.北見工大、2.東海大)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(D)Qian Yang1、Hai Jun Cho1,2、Hyoungjeen Jeen3、Hiromichi Ohta1,2 (1.IST-Hokkaido U.、2.RIES-Hokkaido U.、3.Pusan Nat'l U.)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
楊 倩1、ジョ ヘジュン1,2、イ ジュンヤク3、馮 斌4、幾原 雄一4、ジン ヒョンジン3、〇太田 裕道1,2 (1.北大院情報、2.北大電子研、3.釜山大物理、4.東大工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇工藤 拓也1、中村 淳2,1、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技術科学大学、2.中部キレスト株式会社)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇(B)本田 秀理1、工藤 拓哉1、中村 淳2,1、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(M1)郭 振宇1、中村 淳2,1、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇淡 エンキン1、中村 淳1,2、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト (株))
スケジュール
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