一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2019年9月20日(金) 15:30 〜 19:00 E203 (E203)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
15:30 〜 15:45
〇古瀬 裕章1、堀内 尚紘2、金 炳男3 (1.北見工大、2.東京医科歯科大、3.物材機構)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇佐藤 庸一1,2、平等 拓範1,2 (1.理研RSC、2.分子研)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇横関 海翔1、藤岡 加奈1、時田 茂樹1、荻野 純平1、北島 将太朗1、宮永 憲明2、河仲 準二1 (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(P)Hengjun Chen1、Akio Ikesue2、Hiroyuki Noto1、Hiyori Uehara1、Yoshimitsu Hishinuma1、Takeo Muroga1、Ryo Yasuhara1 (1.NIFS、2.World-Lab co., Ltd.)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇上原 日和1、Chen Hengjun1、池末 明生2、能登 裕之1、菱沼 良光1、室賀 健夫1、安原 亮1 (1.核融合研、2.(株)ワールドラボ)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇(M1)今井 麻由1、古瀬 裕章1、森田 孝治2、金 炳男2、鈴木 達2、吉田 英弘3、目 義男2、平賀 啓二郎2 (1.北見工大、2.物材機構、3.東京大)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(D)河瀬 広樹1、上原 日和1,2、安原 亮1,2 (1.総研大、2.核融合研)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇五十嵐 裕紀1、田丸 裕基1、曲 晨1、上場 康弘1、淵向 篤1、村上 嘉彦1、三浦 泰祐1、藤本 准一1、溝口 計1 (1.ギガフォトン(株))
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇宮田 憲太郎1、棚橋 晃宏1、茂原 瑞希2、志村 啓2、中山 伸一3、和田 智之1 (1.理研、2.日立ハイテク、3.メガオプト)
スケジュール
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18:00 〜 18:15
〇中山 和也1、岡島 茂樹1、田中 謙治2、安原 亮2、川端 一男2 (1.中部大工、2.核融合研)
スケジュール
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18:15 〜 18:30
〇川崎 泰介1,2、ヤヒア ヴァンサン2、平等 拓範1,2 (1.理研、2.分子研)
スケジュール
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18:30 〜 18:45
〇荻野 純平1、時田 茂樹1、Li Zhaoyang1、山口 尚弘1、北島 将太朗1、本越 伸二2、森尾 登1、椿本 孝治1、吉田 英次1、藤岡 加奈1、河仲 準二1、植田 憲一1,3、兒玉 了祐1 (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研、3.電通大レーザー研)
スケジュール
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18:45 〜 19:00
〇吉田 英次1、時田 茂樹1、椿本 孝治1、河仲 準二1 (1.阪大レーザー研)
スケジュール
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