一般セッション(口頭講演)
[20a-E307-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術
2019年9月20日(金) 10:00 〜 11:45 E307 (E307)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
10:00 〜 10:15
〇山本 洋揮1、 Vesters Yannick2,3、 Jiang Jing2、 de Simone Danilo2、 Vandenberghe Geert2、 古澤 孝弘4 (1.量研高崎、2.IMEC、3.KU Leuven、4.阪大産研)
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10:15 〜 10:30
〇(M2)河合 俊平1、 岡本 一将2、 大沼 正人1、 古澤 孝弘2 (1.北大院工、2.阪大産研)
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10:30 〜 10:45
▲ [20a-E307-3] Improvement of Line-Edge Roughness on Pt-based Ultrafine Nanorods by Post-Exposure Bake
〇JAEYEON KIM1、 Ryo Toyama1、 Yutaka Majima1 (1.Tokyo Institute of Technology)
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11:00 〜 11:15
〇堀内 敏行1、 井門 芳恵1、 住本 和弥1、 柳田 明1、 小林 宏史1 (1.東京電機大工)
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11:15 〜 11:30
〇川田 博昭1、 清水 進吾1、 安田 雅昭1、 平井 義彦1 (1.大府大)
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11:30 〜 11:45
〇(B)金子 奈帆1、 大賀 友瑛1、 大島 淳史1、 金子 智2,1、 松田 晃史1、 吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)
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