一般セッション(口頭講演)
[20p-E317-1~9] 9.3 ナノエレクトロニクス
2019年9月20日(金) 13:30 〜 16:00 E317 (E317)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇大勝 賢樹1、 Lee SeungJoo1、 新谷 亮2、 真島 豊1 (1.東工大、2.阪大)
13:45 〜 14:00
〇楊 銘悦1、 遠山 諒1、 Tue Trong Phan1、 真島 豊1 (1.東工大)
14:00 〜 14:15
〇乙津 和希1,3、 菅 洋志1、 塚越 一仁2、 内藤 泰久3 (1.千葉工大、2.物材機構、3.産総研)
14:15 〜 14:30
〇阿部 卓也1,3、 菅 洋志1、 塚越 一仁2、 内藤 泰久3 (1.千葉工大、2.物材機構、3.産総研)
14:30 〜 14:45
〇梅田 有輝也1,2、 郑 述述2、 内藤 泰久3、 盧 興4、 菅 洋志1,2、 塚越 一仁2 (1.千葉工大、2.物材機構、3.産総研、4.華中科技大学)
15:00 〜 15:15
〇(M2)西村 智紀1、 Alka Singh1、 杉山 皓慎1、 佐藤 弘明1,2、 猪川 洋1,2 (1.静岡大院総合科学技術、2.静岡大電子研)
15:15 〜 15:30
〇谷貝 知起1、 森林 誠1、 守屋 雅隆1、 島田 宏1、 平野 愛弓2、 廣瀬 文彦3、 水柿 義直1 (1.電通大、2.東北大、3.山形大)
15:30 〜 15:45
〇門田 悠1、 今井 茂1 (1.立命館大理工)
15:45 〜 16:00
〇坂井 俊太1、 今井 茂1 (1.立命大理工)