2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[18a-C212-1~11] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2019年9月18日(水) 09:00 〜 12:00 C212 (C212)

深田 直樹(物材機構)、鳥越 和尚(SUMCO)、杉村 渉(SUMCO)

09:00 〜 09:15

[18a-C212-1] シリコン結晶基板の品質と点欠陥(2)Precipitate EngineeringからPoint Defect Engineeringへ

井上 直久1,2 (1.東京農工大学工学院、2.大阪府大研究推進)

キーワード:シリコン結晶、点欠陥、制御

シリコン結晶とトランジスタが誕生してから60年の歴史をDefect engineeringの寄与について振り返った。LSI時代にはprecipitate engineeringが開始され、SOC時代にはmicrodefect、パワーデバイス時代にはCiOi engineeringによりキーデバイスが実現されておりこれらは今後point defect engineeringとしてさらに発展する。