2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[18a-C212-1~11] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2019年9月18日(水) 09:00 〜 12:00 C212 (C212)

深田 直樹(物材機構)、鳥越 和尚(SUMCO)、杉村 渉(SUMCO)

10:30 〜 10:45

[18a-C212-6] 超高温RTPによるSiウェーハ中の空孔-酸素複合体の形成

須藤 治生1,2、末岡 浩治3 (1.グローバルウェーハズ・ジャパン、2.岡山県大院情報系工、3.岡山県大情報工)

キーワード:シリコン、急速昇降温熱処理、点欠陥