[18a-E303-1~12] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

△ [18a-E303-11] 実験室系硬X線光電子分光法による埋もれた界面の化学結合状態評価

〇西原 達平¹、金井 皓輝¹、横川 凌^1,2、廣沢 一郎³、安野 聡³、大川 登志郎⁴、小椋 厚志¹ (1.明治大学、2.学振特別研究員 DC、3.高輝度光科学研究センター、4.シエンタオミクロン)

キーワード：X線光電子分光法、硬X線、シンクロトロン

近年、注目を集めている硬X線光電子分光法の実験室ベースの装置が開発され、それを用いた測定結果について報告を行う。Au、SiO₂/Si構造試料を用いた装置性能の詳細、TiN/Si構造のTiNの膜厚による測定結果への影響について報告する。