[18a-F211-1~8] 8.3 プラズマナノテクノロジー

△ [18a-F211-8] CCP-CVD/スパッタ複合プロセスによる金属ドープSiO:CH膜の作製

〇(B)相原 康二²、菅野 匡宏¹、矢崎 衛¹、井上 泰志^1,2、高井 治³ (1.千葉工大院工、2.千葉工大工、3.関東学院大・表面研)

キーワード：CCP-CVD、マグネトロンスパッタリング、SiO:CH膜