[18a-PA6-1~12] 8.1 プラズマ生成・診断

[18a-PA6-4] 異なる希釈ガスを用いたRF 低圧テトラメチルシランプラズマにおける電極への入射イオンの質量分析

〇鈴木 駿¹、小川 慎¹、石井 晃一¹、小田 昭紀¹、太田 貴之²、上坂 裕之³、渡邉 泰章⁴ (1.千葉工大、2.名城大、3.岐阜大、4.イノベーションサイエンス(株))

キーワード：容量結合型プラズマ、質量分析、テトラメチルシラン

Siを含有したダイヤモンドライクカーボン(Si-DLC)膜は，非常に低い摩擦係数を示し，自動車部品等の摺動部品への応用が期待されている．Si-DLC成膜時のプラズマ生成用ガスとしてテトラメチルシラ(Tetramethylsilane，以下TMS)が主に用いられている．本研究では，Ar, He, Ne という異なるガスで希釈されたTMSガスを用いて容量結合型RF低圧プラズマを生成し，質量分析装置を用い電極に入射したイオンの測定を行ったので，その結果について報告する．