[18a-PA6-1~12] 8.1 Plasma production and diagnostics

[18a-PA6-4] Mass Spectrometric Study on Incident Ions on Electrode in Low-Pressure RF Tetramethylsilane Plasmas with Different Dilution Gases

〇Shun Suzuki¹, Shin Ogawa¹, Koichi Ishii¹, Akinori Oda¹, Takayuki Ohta², Hiroyuki Kousaka³, Yasuaki Watanabe⁴ (1.Chiba Tech, 2.Meijo Univ., 3.Gifu Univ., 4.Innovation Science Inc.)

Keywords:Capacitively-Coupled Plasma, Mass Spectrometric, Tetramethylsilane

Siを含有したダイヤモンドライクカーボン(Si-DLC)膜は，非常に低い摩擦係数を示し，自動車部品等の摺動部品への応用が期待されている．Si-DLC成膜時のプラズマ生成用ガスとしてテトラメチルシラ(Tetramethylsilane，以下TMS)が主に用いられている．本研究では，Ar, He, Ne という異なるガスで希釈されたTMSガスを用いて容量結合型RF低圧プラズマを生成し，質量分析装置を用い電極に入射したイオンの測定を行ったので，その結果について報告する．