2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[18a-PB3-1~47] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年9月18日(水) 09:30 〜 11:30 PB3 (第二体育館)

09:30 〜 11:30

[18a-PB3-15] Analysis on Al layer formed by TMAl preflow for growth of GaN on SiC

Yifu Zhu1、Jianwei Wang1、Takeshi Momose1、Yukihiro Shimogaki1、Momoko Deura1 (1.Univ. of Tokyo)

キーワード:gallium nitride, TMAl preflow