15:15 〜 15:30
[18p-B11-8] モノリシック3次元CMOS集積に向けたGe-On-Insulator技術
キーワード:ゲルマニウム、CMOS、Monolithic 3D
M3D Ge-CMOSに向けたフルウエハースケールでの積層化と薄膜化されたGe層の電子物性と結晶性等を評価したので報告する。
一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術
15:15 〜 15:30
キーワード:ゲルマニウム、CMOS、Monolithic 3D