2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[18p-B31-1~16] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2019年9月18日(水) 13:15 〜 18:00 B31 (B31)

赤羽 浩一(NICT)、藤川 紗千恵(東京電機大)、小島 信晃(豊田工大)

17:45 〜 18:00

[18p-B31-16] MOVPE条件下におけるⅢ族窒化物半導体無極性面の熱力学解析

清水 紀志1、瀬田 雄基1、アブドルムィッツ プラディプト1、秋山 亨1、中村 浩次1、伊藤 智徳1、草場 彰2、寒川 義裕3,4 (1.三重大院工、2.学習院大計算セ、3.九大応力研、4.名大未来研)

キーワード:窒化物半導体、第一原理計算、熱力学解析

窒化物半導体は発光デバイスへの応用が期待されているが、c軸に沿った内部電界の影響によりその発光効率が低下するという問題点がある。そこで、c軸から成長方向を傾けた無極性面を成長面とした結晶成長が注目を集めている。本研究では、MOVPE条件下における結晶成長を理論的に議論するために、第一原理計算に基づき算出された表面エネルギーを熱力学的に解析する手法を用いて、成長条件と極性との関係性を議論する。