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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[18p-E304-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年9月18日(水) 13:45 〜 16:15 E304 (E304)

池上浩(九大)、羽深等(横国大)

15:15 〜 15:30

△ [18p-E304-7] ラマン分光法を用いたWigglingシリコン窒化膜パターンによる応力評価

〇(M1)小原田賢聖¹、横川凌^1,2、澤本直美¹、吉岡和俊¹、小椋厚志¹ (1.明治大理工、2.学振特別研究員DC)

キーワード：ラマン分光法