2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-E311-1~18] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年9月18日(水) 13:15 〜 18:00 E311 (E311)

松野 丈夫(阪大)、服部 梓(阪大)

15:00 〜 15:15

[18p-E311-8] エピタキシャル酸化物界面におけるスピン流の検出

〇(M2)寺林 真輝1、関 真一郎2,3、高木 里奈2,3、中村 優男2、川﨑 雅司2,3、石橋 幸治2、齋藤 智彦1、松野 丈夫2,4,5 (1.東理大理、2.理研 CEMS、3.東大工、4.阪大理、5.JSTさきがけ)

キーワード:スピン流、エピタキシャル酸化物界面

スピン流熱電変換ではYIG‐Ptの組み合わせを用いた研究が先行しているが、YIGが単結晶、Ptが多結晶であるため、その界面は乱雑である。スピン流が非磁性金属に注入される際、理想的な界面ではより高い注入効率が期待される。本研究では原子層レベルで平坦な界面を形成できるペロブスカイト型酸化物を用いて、エピタキシャル界面La2NiMnO6‐SrIrO3を作製し、スピンポンピング法により理想的な界面におけるスピン流注入の検出に初めて成功した。