2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[18p-N302-1~18] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2019年9月18日(水) 13:00 〜 18:00 N302 (N302)

加藤 正史(名工大)、佐藤 威友(北大)

13:30 〜 13:45

[18p-N302-3] ステップ電圧印加時の過渡電流測定によるGaN中のトラップ密度評価

西田 宗史1、星井 拓也1、片岡 寛明1、筒井 一生2、角嶋 邦之1、若林 整1 (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創成研究院)

キーワード:窒化ガリウム