2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[18p-N304-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月18日(水) 13:15 〜 17:30 N304 (N304)

吉川 洋史(埼玉大)、小幡 孝太郎(理研)、安國 良平(奈良先端大)

16:30 〜 16:45

[18p-N304-12] アブレーション閾値フルーエンス以下に調整された第一パルスを用いたフェムト秒レーザーダブルパルス照射によるチタンアブレーションの抑制

古川 雄規1,2、井上 峻介1,2、橋田 昌樹1,2、阪部 周二1,2 (1.京大化研、2.京大院理)

キーワード:金属、アブレーション、フルーエンス

フェムト秒レーザーダブルパルス照射による金属表面への照射痕形成の物理解明を目的として、第一パルスのフルーエンスをアブレーション閾値以下としたダブルパルス照射を行った。数百ピコ秒の遅延時間においてアブレーションが抑制されることを発見した。アブレーション率のレーザーフルーエンスおよび時間間隔への依存性から、第一パルス照射がアブレーション抑制に果たす役割を考察した。