[18p-PA5-1~22] 6.4 薄膜新材料

[18p-PA5-12] 反応性蒸着法によるHfO₂膜とUV反射防止膜の作製

〇室 幸市¹、坂井 正幸¹ (1.朝日分光（株）)

キーワード：反応性蒸着、HfO2、紫外光

光学薄膜の蒸着において、多くの場合、出発材料として金属酸化物が用いられるが、材料掘れによる膜分布ムラや突沸によるブツなどの問題がある。そこで、反応性蒸着法を用いて、金属材料を出発材とした金属酸化物の成膜を検討した。今回、紫外光向けのHfO₂膜を作製したので報告する。