[18p-PB5-1~36] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[18p-PB5-2] ミストCVD法によるオゾン ( O₃ ) ガス支援α-Ir₂O₃薄膜の作製

〇増田 泰久¹、金子 健太郎¹、四戸 孝²、藤田 静雄¹ (1.京大院工、2.株式会社FLOSFIA)

キーワード：酸化イリジウム