2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[19a-E301-1~9] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:00 E301 (E301)

加藤 正史(名工大)

11:45 〜 12:00

[19a-E301-9] AlGaN/GaN MOS HEMTの周波数特性評価

小澤 渉至1、アスバル ジョエル1、徳田 博邦1、八木下 洋平2、川野 陽一2、葛原 正明1 (1.福井大院工、2.富士通研)

キーワード:GaN、電流遮断周波数、最大発信周波数

AlGaN/GaN HEMTは低オン抵抗、高耐圧特性を有するパワーデバイスとして期待されている
。現在マイクロ波帯で動作するHEMTは主にゲートをショットキー障壁金属で構成したMES-HEMTである。本研究では、ゲート電極下にAl2O3膜を持つAlGaN/GaN MOS-HEMTを試作し、その直流特性およびマイクロ波帯で測定したSパラメータから算出した電流遮断周波数(ft)と最大発振周波数(fmax)について検討したので報告する。