[19a-E305-1~12] 13.3 絶縁膜技術

[19a-E305-3] スパッタリングによって形成したAlScN膜のリーク電流の評価

〇草深 一樹¹、Sunglin Tsai¹、星井 拓也¹、若林 整¹、筒井 一生²、角嶋 邦之¹ (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創成研究院)

キーワード：AlScN、MFM