[19a-E318-1~12] 【CS.7】 7.2 電子ビーム応用、7.4 量子ビーム界面構造計測、9.5 新機能材料・新物性のコードシェアセッション

[19a-E318-10] 電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索

〇水野 秀哉¹、久保 建統¹、健太郎 小島¹、小寺 正敏¹ (1.大阪工大)

キーワード：電子ビーム、走査電子顕微鏡、レジスト帯電

高速大容量の半導体集積回路を実現するためには、電子ビーム（EB）描画技術をさらに向上させる必要がある。その際、フォトマスクへのEB露光時の帯電が問題となる。本研究では電子ビーム露光時の表面電位を非接触で測定し、レジストの無帯電状態を探索した。発表の際はフォギング電子が作るグローバルな帯電分布とEB直下のローカルな帯電分布の無帯電にするための条件について詳細に説明する予定である。